1
Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм
Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом «Планар».
«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства» — говориться в сообщении.
Также мэр подчеркнул, что отечественный фотолитограф «серьезно отличается от зарубежных аналогов», так как в нем использовался твердотельный лазер в качестве излучения.
Сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нм. Завершить его пла...
Читать далее: https://sdelanounas.ru/blogs/167425/?utm_source=tg
🏭 @sdelanounas_ru - подпишись
Кстати, а вы хотите чтобы на этом канале появились новости о вашей компании? Это бесплатно! Подробнее здесь: https://sdelanounas.ru/staticpages/?id=126