1
Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.
Проект по созданию установки стартовал в 2021 году, и менее чем за четыре года специалистам удалось разработать и внедрить действующий образец. Новое оборудование поддерживае...
Читать далее: https://sdelanounas.ru/blogs/167394/?utm_source=tg
🏭 @sdelanounas_ru - подпишись
Кстати, а вы хотите чтобы на этом канале появились новости о вашей компании? Это бесплатно! Подробнее здесь: https://sdelanounas.ru/staticpages/?id=126